Проблемы в производстве литографской машины заключаются в трех критических компонентах: источнике света, двойной платформе заготовки и линзе литографии.
Было несомненно, что страна Z была лучшей, когда дело доходило до производства источников света. Об этом можно было судить по их лазерному оружию, которое, очевидно, было гораздо более совершенным, чем оружие из Мерики.
Крошечный маленький источник света был куском пирога для ученых страны Z.
Двойная платформа workpiece была немножко более трудна. Было сказано что двойная платформа workpiece начатая ASML была основана на магнитном моторе плоскости подвеса. Управление движением фоторезиста было отточено до высокой точности в 2 нанометра. Это значительно улучшило точность и эффективность обработки стружки.
Зарубежные специалисты высокомерно заявляли “что”ни одна другая организация не сможет произвести такую передовую двойную обрабатывающую платформу».
Однако менее чем через 5 лет команда ученых разработала двойную рабочую платформу с контролем движения фоторезиста около 2 нанометров, которая успешно прошла проверку.
При этом их основные технологические показатели были сопоставимы с технологическими стандартами зарубежных двухплатформенных фотолитографических машин.
Страна Z завоевала двойную платформу workpiece слишком.
Наконец, это была линза фотолитографической машины. В последние годы страна Z добилась быстрого прогресса в области оптических линз. Даже оптические спутники производства гражданской компании имели разрешение до 0,5 метра. Он мог бы обеспечить панорамный обзор авианосцев, военных кораблей и транспортных средств на земле. Даже взлетающий самолет можно было заснять на видео. Видео запуска ракеты имело четкость, которая была просто потрясающей.
Если производительность оптических линз для гражданского использования была так смехотворно хороша, то линзы, разработанные для военных, должны быть вне этого мира.
Это отражает прогресс, достигнутый страной Z в области оптических линз.
Естественно, что линзы для фотолитографической машины не были проблемой для ученых страны Z.
Следовательно 3 необходимых компонента источника света, двойной платформы workpiece и объектива литографии уже были управлены страной Z.
Именно по этой причине ASML прекратил продажу фотолитографических машин в страну Z. Строгая изоляционистская политика только заставит Z-ю страну добиваться прорывов в секторе фотолитографии более быстрыми темпами.
Даже ручной кролик захочет убить тебя, если его загнать в угол.
Литографские машины страны Z не догнали самый продвинутый уровень в зарубежных странах. Одна из причин заключается в том, что доля рынка жестко контролируется; вторая причина заключается в том, что, следуя тем же техническим путем, что и ASML, они неизбежно нарушат права интеллектуальной собственности ASML, что приведет к патентным искам.
Кроме того, были запрещены продажи некоторых основных видов оборудования в страну Z.
Таким образом, прогресс Отечественной фотолитографической машины застопорился.